真空镀膜腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时，采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力，从而提升最终等离子气相沉积（PVD）的结果。
真空镀膜腔体内 快速、精确、稳定的压力控制用户痛点：真空腔体内压力的波动起伏造成 镀膜不均匀、重复性欠佳问题描述： 真空镀膜的过程通常在一个负压 的密闭腔体内进行。之所以抽成真 空是因为环境气体会对参与镀膜 的各物质间的反应过程造成干扰， 而在真空环境下，汽化了的金属、 电离分子、等离子反应化合物等镀 层就能与其它材料的被镀表面融合了。
简单点来说，真空镀膜系统通常包 含两个主要部分：首先是与真空泵 连接的真空室，通常用节流阀调节 真空程度并控制关断以防止泄漏。 另一部分则是气源，气体经过质量 流量控制器后输入到真空腔内，形 成适宜镀膜的气体密度等级。
其中 的一些为非反应类的惰性气体，仅 用于维持真空腔体的负压环境，不 会对参与反应的化学物质的浓度 造成任何影响。接下来就是反应气 体了，比如氧化涂层过程中用的氧 气。有些真空镀膜过程会将非反应类气体作为载气或对反应气体进 行稀释。
镀膜材料可以是经过融化 和电场装置后被电离的汽化了的 金属。一些系统中还会有一部分 "净化气体"用于对反应结束的过 程腔体进行"清洁".
